Objetivo de titanio pulido con revestimiento al vacío de galvanoplastia

Yifang Titanium proporciona un objetivo de titanio pulido con revestimiento al vacío para galvanoplastia, que es adecuado para diversas aplicaciones, como ferromagnéticas, de óxido compuesto y de película delgada semiconductora. Podemos proporcionarle varios grados de pureza de objetivos de titanio según sus requisitos y condiciones de producción reales, con una pureza mínima del 99,5 % y una pureza máxima del 99,98 %.

Nuestro objetivo de titanio pulido adopta tecnología avanzada de prensado isostático en caliente (HIP), sinterización al vacío y fusión al vacío, con una pureza y densidad extremadamente altas. La distribución general de la composición es uniforme y los granos son finos. Esto hace que nuestro material objetivo sea extremadamente duradero.
Pureza: 99.95-99.98%
Redondo: diámetro<=14 inches, thickness >=1mm
Bloque: longitud<=32 inches, width <=12 inches, thickness >=1mm
Tipo de objetivo: objetivo de pulverización plano, objetivo de pulverización giratorio

Supervisamos cada vínculo, desde las materias primas hasta los productos terminados, para garantizar que desde nuestra fábrica solo se envíen objetivos de alta calidad. Nuestra empresa puede producir objetivos de titanio pulido con recubrimiento al vacío y galvanoplastia en varias formas y tamaños. Háganos saber el material y el tamaño que necesita y cumpliremos con sus requisitos especiales.

Preguntas frecuentes

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